Page 79 - 理化检验-物理分册2024年第十一期

蒋蓉蓉，等：离子束抛光仪的维护保养

图 9 试样靠近遮蔽板边缘抛光区域并被反沉积污染前后的 SEM 形貌

板靠近试样时，两者为线接触，即试样上只有一条线 贴合缝隙不要过大。如果试样表面起伏过大，可以
的区域受力。当挡板和试样刚好贴合时，试样可依 用树脂包埋，使其有一个平整的贴合面。
旧保持垂直，和支撑板之间有大面积的铜双面胶带
5 结语
黏贴固定。但是，当遮蔽板和试样贴合过紧时，试样
很容易受遮蔽板的推力而倾斜。试样倾斜造成试样 总结了Leica EM TIC 3X型三离子束抛光仪日
和支撑板之间产生缝隙，只剩线接触，导致试样固定 常维护、保养的主要注意事项，同时分析了仪器运行
不稳。在后续的抛光过程中，试样长时间被一定电 过程中的常见问题及其解决方法，研究结果有助于
压的离子束轰击，产生热量，铜双面胶带受热后胶 仪器管理者对离子束抛光仪进行更好地维护、保养，
体软化，导致黏性变差，试样在重力作用下会向下移 使仪器达到更好的运行状态，制备出更高质量的试
动，甚至坠落。试样上初始设定的抛光区域一旦移 样，以得到更可靠的分析结果。
动下滑，就会使试样的目标抛光区域低于离子束作
参考文献：
用最强、流速最大的区域。在这种情况下，该区域的
离子沉积速率会大于被轰击速率，会成为反沉积的 [1] ERDMAN N，CAMPBELL R，ASAHINA S．Precise
温床。 SEM cross section polishing via argon beam milling[J]．
试样和挡板之间的缝隙过大导致试样表面被反 Microscopy Today，2006，14(3)：22-25．
[2] LOUCKS R G，REED R M，RUPPEL S C，et al．
沉积污染（见图10）。试样和挡板之间的缝隙是离子
束作用的死角，被溅射出来的离子更容易往离子浓 Morphology，genesis，and distribution of nanometer-scale
pores in siliceous mudstones of the Mississippian barnett
度低的地方移动，导致试样表面被反沉积污染。这
shale[J]．Journal of Sedimentary Research，2009，79(12)：
种情况没有污染抛光区域，只是在最外侧多了一层
848-861．
溅射层，虽然不影响观察试样的抛光断面，但是容易 [3] 武磊，刘卫国，蔡长龙，等．ZnS离子束抛光过程中的粗
产生误导性结果。消除这种反沉积现象的方法是在 糙度演变[J]．西安工业大学学报，2014，34(12)：947-952．
抛光区域侧面增加一层胶带保护层，制样后反沉积 [4] 马波，刘卫国，周顺，等．宽束径离子束抛光KDP晶体
层随着胶带一并去除。还可以在离子抛光前进行前 表面粗糙度特征研究[J]．西安工业大学学报，2020，
处理，使试样表面尽量平整，同时控制试样和挡板的 40(6)：589-597．
[5] 张革，崔云，赵娇玲，等．同时制备多个透射电镜截面
试样的离子减薄方法[J]．理化检验(物理分册)，2023，
59(10)：27-29．
[6] 王燕飞，黄宛真，郑遗凡，等．脆性材料截面透射电
镜样品的制备[J]．理化检验(物理分册)，2011，47(4)：
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[7] JIANG R R，LI M，YAO Y R，et al．Application of
BIB polishing technology in cross-section preparation
of porous，layered and powder materials：a review[J]．
图 10 试样表面被反沉积污染的 SEM 形貌 Frontiers of Materials Science，2019，13(2)：107-125．

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