Page 59 - 理化检验-物理分册2021年第十二期

赵小鹏, 等: 化学共沉淀工艺对镍包覆碳化钨硬质合金粉体包覆质量的影响

核, 有利于制备纯度较高的晶形沉淀。沉淀剂加入 [ J ] . 复合材料学报, 2006 , 23 ( 6 ): 134-137.

体积流量为0.17mL · s 时反应生成的前驱体颗粒 [ 9 ] 侯玉柏, 鲍君峰, 崔颖. 高压氢还原制备钴包球形碳化
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表面包覆效果和分散性最佳, 且能获得最高沉淀率。 钨的工艺研究[ J ] . 热喷涂技术, 2012 , 4 ( 3 ): 44-48.
( 4 )当沉淀剂的加入体积流量过大可能使得溶 [ 10 ] 郭圣达, 羊建高, 吕健, 等. 喷雾转化法纳米 WC-6Co

液局部浓度过高, 产生团聚或组成不够均匀。另外 复合粉形貌研究[ J ] . 稀有金属, 2015 , 39 ( 1 ): 43-48.

[ 11 ] LIUZ , JIAN L , TAO W.Pre p arationof WC-Co
沉淀生成速率太快还会导致表面吸附的杂质离子来
com p osite p owder b y electroless p latin g and its
不及被主沉淀的晶格离子取代, 就被后来沉积的离
a pp licationinlasercladdin g [ J ] .MaterialsLetters ,
子所覆盖, 则杂质离子就有可能陷入沉淀的内部, 导
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致吸留现象的发生。 [ 12 ] 孙业熙, 苏伟, 杨海林, 等. 一步还原包裹粉工艺制备
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